日本（JP）
JP 7446357 B2
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
英語（機械翻訳）： Resist composition and resist pattern forming method
JP 7446357 B2 は日本国特許庁（JPO）の特許公報です（日付 2024-03-08）。出願人：Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
- 発明者
- 陽介 鈴木; 健太 鈴木; 孝裕 小島; 潤 吉田; 健吾 池内
- 公開日
- 2024-03-08
- 出願日
- 2022-03-29
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- JP 7446357 B2 · JP7446357
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