日本（JP）
JP 7717621 B2
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
英語（機械翻訳）： Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern
JP 7717621 B2 は日本国特許庁（JPO）の特許公報です（日付 2025-08-04）。出願人：JSR Corp。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- JSR Corp
- 発明者
- 龍一 根本; 康太 古市; 甫 稲見
- 公開日
- 2025-08-04
- 出願日
- 2020-12-22
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- JP 7717621 B2 · JP7717621
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