米国（US）
US 12,696,908 B2
Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
US 12,696,908 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-04）。出願人：NanoGuard Technologies, LLC。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
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- 出願人
- NanoGuard Technologies, LLC
- 発明者
- Kevin M. Keener; Mark A. Hochwalt
- 公開日
- 2026-08-04
- 出願日
- 2023-12-20
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,696,908 B2 · US12696908 · 12696908
要約
A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas; transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP; followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）