米国（US）
US 12,697,475 B2
Microneedle patch base layer lamination and separation device, microneedle patch base layer lamination device, and microneedle patch demolding and separation device
US 12,697,475 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-04）。出願人：ZHUHAI CREWAY PHARMACEUTICAL TECHNOLOGY CO., LTD; YOUWE (ZHUHAI) BIOTECHNOLOGY CO., LTD。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- ZHUHAI CREWAY PHARMACEUTICAL TECHNOLOGY CO., LTD; YOUWE (ZHUHAI) BIOTECHNOLOGY CO., LTD
- 発明者
- Chengguo LI; Gang LENG; Yonghao MA; Hong WANG; Lianhua CHEN
- 公開日
- 2026-08-04
- 出願日
- 2024-11-18
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,697,475 B2 · US12697475 · 12697475
要約
A microneedle patch base layer lamination and separation device and a control method therefor, a microneedle patch base layer lamination device and a control method therefor, and a microneedle patch demolding and separation device and a control method therefor are provided. The microneedle patch base layer lamination and separation device includes a rack, a movement control mechanism, a movable seat, and a lamination and separation apparatus.…
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）