米国（US）
US 12,697,699 B2
Retainer, top ring, and substrate processing apparatus
US 12,697,699 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-04）。出願人：EBARA CORPORATION。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- EBARA CORPORATION
- 発明者
- Yu ISHII
- 公開日
- 2026-08-04
- 出願日
- 2023-06-16
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,697,699 B2 · US12697699 · 12697699
要約
A retainer is disposed around a holding region 39 of a polygonal substrate WF in a top ring for holding the polygonal substrate WF with a surface to be polished facing downward. The retainer 30 includes a plurality of retainer main bodies 3 disposed around the holding region 39 independently along respective sides of the polygonal substrate WF. At least one of the plurality of retainer main bodies 3 includes a first securing surface (first surface 3a), a first opposed surface (second surface 3b), a second securing surface (third surface 3c), and a second opposed surface (fourth surface 3d).…
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）