米国（US）
US 12,702,528 B2
Relapse prevention retainer
US 12,702,528 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-11）。出願人：Align Technology, Inc.。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
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- 出願人
- Align Technology, Inc.
- 発明者
- Ken WU; Huizhong LI; Mitra DERAKHSHAN; Zhou YU; James NISHIMUTA; Yuxiang WANG; Xi CAI; Rohit TANUGULA; Jeeyoung CHOI; Eric YAU; Jun SATO; John Y. MORTON
- 公開日
- 2026-08-11
- 出願日
- 2022-12-30
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,702,528 B2 · US12702528 · 12702528
要約
Apparatuses and methods for customized retainers to prevent relapse. In particular, described herein are customized retainers, and methods and apparatuses for making customized retainers that specifically reenforce and prevent movement of one or more teeth having a higher likelihood of relapse following completion of an orthodontic treatment plan.
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）