米国（US）
US 12,702,961 B2
Resistivity adjustment device and resistivity adjustment method
US 12,702,961 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-11）。出願人：DIC Corporation。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- DIC Corporation
- 発明者
- Daijirou Anzai; Naoki Hada; Kazumi Oi
- 公開日
- 2026-08-11
- 出願日
- 2023-12-18
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,702,961 B2 · US12702961 · 12702961
要約
Even when the flow rate at which liquid is supplied varies, the variation in the resistivity of resistivity-adjusted liquid is suppressed by using a simple structure. The hollow fiber membrane module is sectioned into a liquid-phase region and a gas-phase region by hollow fiber membranes. The liquid-phase region receives liquid L whose resistivity is to be adjusted. The gas-phase region receives adjustment gas G used to adjust a resistivity of the liquid L.…
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）