米国（US）
US 12,702,999 B2
Application apparatus and application method
US 12,702,999 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-11）。出願人：NTN Corporation; OSAKA UNIVERSITY。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- NTN Corporation; OSAKA UNIVERSITY
- 発明者
- Mitsuru AKASHI; Takami AKAGI; Atsushi ODA; Shohei CHIKAE; Haruka NAKAMURA
- 公開日
- 2026-08-11
- 出願日
- 2022-03-10
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,702,999 B2 · US12702999 · 12702999
要約
An application apparatus includes: an application needle that applies, to a target, an application material having its viscosity changing under shear; a drive unit that moves the application needle up and down; and a controller that controls the drive unit to move the application needle such that shear is applied to the application material at a shear speed depending on a type of the application material and depending on a target application amount or a target application diameter.
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）