米国（US）
US 12,703,013 B2
Substrate processing method and substrate processing apparatus
US 12,703,013 B2 は米国特許商標庁（USPTO）の特許公報です（日付 2026-08-11）。出願人：SCREEN Holdings Co., Ltd.。PDF はこのページからログインなしでダウンロードでき、1日 5 件までです。
- 出願人
- SCREEN Holdings Co., Ltd.
- 発明者
- Tsungju LIN; Hiroaki ISHII
- 公開日
- 2026-08-11
- 出願日
- 2024-09-16
- 文献種別
- B2 特許公報
- 別の表記
- US 12,703,013 B2 · US12703013 · 12703013
要約
The present invention relates to a substrate processing method and a substrate processing apparatus. A substrate processing method includes: a rinsing liquid/brush cleaning step of moving a brush exerting force onto an upper surface of a substrate from a center of the substrate toward a perimeter of the substrate while causing a fixed nozzle to discharge a rinsing liquid onto the upper surface of the substrate rotated by a holding and rotating unit; a rinsing liquid stopping step of stopping discharge of the rinsing liquid from the fixed nozzle when the brush having moved toward the perimeter …
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特許庁のウェブサイト： 米国特許商標庁（USPTO）