日本
JP 7446357 B2
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
英文（機器翻譯）： Resist composition and resist pattern forming method
JP 7446357 B2 是日本特許廳（JPO）的核准專利，日期 2024-03-08。申請人：Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd。PDF 可在本頁下載，未登入每天最多 5 篇。
- 申請人
- Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
- 發明人
- 陽介 鈴木; 健太 鈴木; 孝裕 小島; 潤 吉田; 健吾 池内
- 公開日
- 2024-03-08
- 申請日
- 2022-03-29
- 文件種類
- B2 核准公告
- 也寫作
- JP 7446357 B2 · JP7446357
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專利局網站： 日本特許廳（JPO）