日本
JP 7717621 B2
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
英文（機器翻譯）： Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern
JP 7717621 B2 是日本特許廳（JPO）的核准專利，日期 2025-08-04。申請人：JSR Corp。PDF 可在本頁下載，未登入每天最多 5 篇。
- 申請人
- JSR Corp
- 發明人
- 龍一 根本; 康太 古市; 甫 稲見
- 公開日
- 2025-08-04
- 申請日
- 2020-12-22
- 文件種類
- B2 核准公告
- 也寫作
- JP 7717621 B2 · JP7717621
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專利局網站： 日本特許廳（JPO）