美國
US 12,696,908 B2
Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
US 12,696,908 B2 是美國專利商標局（USPTO）的核准專利，日期 2026-08-04。申請人：NanoGuard Technologies, LLC。PDF 可在本頁下載，未登入每天最多 5 篇。
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- 申請人
- NanoGuard Technologies, LLC
- 發明人
- Kevin M. Keener; Mark A. Hochwalt
- 公開日
- 2026-08-04
- 申請日
- 2023-12-20
- 文件種類
- B2 核准公告
- 也寫作
- US 12,696,908 B2 · US12696908 · 12696908
摘要
A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas; transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP; followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.
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專利局網站： 美國專利商標局（USPTO）