美國
US 12,697,600 B2
Polymeric material composition
US 12,697,600 B2 是美國專利商標局（USPTO）的核准專利，日期 2026-08-04。申請人：UPL LIMITED。PDF 可在本頁下載，未登入每天最多 5 篇。
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- 申請人
- UPL LIMITED
- 發明人
- Rajan Ramakant SHIRSAT; Pradip Dattatray WAGH
- 公開日
- 2026-08-04
- 申請日
- 2023-11-09
- 文件種類
- B2 核准公告
- 也寫作
- US 12,697,600 B2 · US12697600 · 12697600
摘要
The present invention provides a polymeric material composition comprising: (a) at least one superabsorbent polymer; and (b) 0.1% w/w to 2% w/w microporous silicon dioxide; wherein polymeric material composition exhibits non-hygroscopic characteristics with moisture content less than 15% w/w of the total weight of the polymeric material composition at room temperature. The present invention further provides process of preparing said polymeric composition and method of its application.
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專利局網站： 美國專利商標局（USPTO）