美國
US 12,702,873 B2
Mask apparatus
US 12,702,873 B2 是美國專利商標局（USPTO）的核准專利，日期 2026-08-11。申請人：LG Electronics Inc.。PDF 可在本頁下載，未登入每天最多 5 篇。
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- 申請人
- LG Electronics Inc.
- 發明人
- Hojung KIM; Yeongcheol MUN; Yongmin KIM; Chiyoung CHOI; Sejin CHOI
- 公開日
- 2026-08-11
- 申請日
- 2022-07-19
- 文件種類
- B2 核准公告
- 也寫作
- US 12,702,873 B2 · US12702873 · 12702873
摘要
A mask apparatus includes a mask body that defines a suction hole and a discharge hole, a face guard detachably coupled to a rear surface of the mask body by magnetic force, and an air cleaning module configured to filter external air and supply the filtered air to a breathing space. The face guard includes magnetic bodies disposed at a front surface of the face guard.…
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專利局網站： 美國專利商標局（USPTO）